electronic plating chemicals ผู้ผลิตออนไลน์

FF-7702 กระบวนการชุบดีบุกกรดสดใส - การสะสมฟอร์มาลดีไฮด์อย่างรวดเร็วกระบวนการที่เสถียรกระบวนการชุบเคมีอิเล็กทรอนิกส์
เมธีล ซัลโฟนิกแอซิด แมท ทิน สารเสริม
สารเคมีชุบอิเล็กทรอนิกส์เคลือบแคดเมียมอัลคาไลน์ 550 มล./ลิตร ปราศจากไซยาไนด์
สารเคมีชุบโลหะด้วยไฟฟ้าแบบด้านสีเงินปลอดไซยาไนด์ 700 มล./ลิตร
กระบวนการชุบเงินแบบปลอดไซยาไนด์ความเร็วสูง 30 มล./ลิตร สารเคมีชุบโลหะทางอิเล็กทรอนิกส์
สารเคมีชุบอิเล็กทรอนิกส์ FI-GBS Rack และ Barrel ดีบุกบริสุทธิ์
สารสกัดปูนแข็ง สารเคมีเคลือบอิเล็กทรอนิกส์
การเคลือบทองแดงแอลคาไลน์ 500 ml/L สารเคมีเคลือบทองแดง
กระบวนการชุบดีบุกแบบด้าน FF-7720 ซัลเฟต ที่มีประสิทธิภาพการชุบสูง ความเข้มข้นของโลหะต่ำ และการกระจายตัวดี
กระบวนการชุบเงินแบบด้านปราศจากไซยาไนด์ FF-7800
EN 6713 สารเคมีปลอสฟอรัสกลาง
สารเคมีเคลือบทองแดง CuSO4·5H2O สำหรับการชุบก่อนด้วยโลหะผสมสังกะสีอัลคาไลน์
การเคลือบไนเคิลที่มีฟอสฟอรัสสูง สารเคมี การเคลือบไนเคิลที่เน้น ไม่ใช้ไฟฟ้า
สารเคมีชุบนิกเกิลฟอสฟอรัสปานกลางสว่างทั้งหมด ความเร็วในการสะสมตัวสูง
สารเคมีชุบเงินแบบปลอดไซยาไนด์ มีค่า pH 9-10 และอุณหภูมิใช้งาน 20-40℃ สำหรับการชุบด้วยไฟฟ้าที่มีประสิทธิภาพสูง
ระบบกรดซัลฟิวริก FI-MST สารเคมีเคลือบดีบุกอิเล็กทรอนิกส์แบบด้าน

2 3 4 ล่าสุด รวม 4 หน้า